英國Ossila浸漬提拉鍍膜機性能，內置軟件，操作簡單，價格經濟，為科研領域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設計的精密儀器。目前在化學、材料科學的研究中，被廣泛應用于溶膠-凝膠（sol-gel）法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝，可以精準控制膜片提出速度，進而控制涂層厚度，保證良好重復性。提供2年的質保，為使用者提供更高的保障。

英國Ossila小型狹縫涂布儀結構緊湊，價格實惠，使用簡單，準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說，它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術之一。其廣泛的加工窗口確保穩定、無缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高，準確且可重復，厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

英國Ossila公司勻膠旋涂儀，操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象，影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學及表面涂覆等工藝。

英國Ossila SpinProcessor，操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯

英國Ossila-Spin Coater操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到較好的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象，影響涂層的均勻性。

UV Ozone Cleaner是一種簡單，經濟，快速的材料表面清洗設備，只需把樣品放置到樣品盤上，關上艙門，設置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！

紫外臭氧清洗機具有干洗處理、無需真空處理、無破壞燈特長，紫外線燈和照射裝置的高輸出照射技術，實現了以往用溶劑或超聲波清洗液難以達到的高品質、高速處理效果。為客戶能制造出更高品質的產品而提供紫外線清洗和紫外線改質。

英國Ossila旋涂機/鍍膜機，方便實用，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案，采用創新設計的旋涂盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果，操作簡單方便，旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。 Ossila旋涂機內置調整水平裝置，Z大限度的保證旋涂均勻。