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    Ossila紫外臭氧清洗機(jī)

    簡要描述:Ossila紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

    • 產(chǎn)品型號:L2002
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2024-10-25
    • 訪  問  量:3427

    詳細(xì)介紹

    品牌Ossila/歐西拉產(chǎn)地類別進(jìn)口
    應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,農(nóng)業(yè),地礦


    紫外臭氧清洗機(jī)UVO)

    目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

    v 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面。

    v 表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,在將有機(jī)物分解的同時(shí),254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。

    主要應(yīng)用:

    • 石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

    • 微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。

    • 精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。

    • 在膠粘接或是印刷之前,對高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。

    • 科研過程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學(xué)等

    產(chǎn)品特點(diǎn)

    • 成本低;

    • 120x120mm樣品臺;

    • 大處理樣品高14mm;

    • 抽屜式樣品臺,簡單方便;

    • 樣品臺自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉,防止對人身傷害;    


    • UVO顯示器

    • LCD屏顯示“已用時(shí)間"和“剩余時(shí)間";

    • 60分鐘定時(shí)器;

    • 高強(qiáng)度UV燈源;

    • 可控溫的樣品臺;

    • 樣品清洗無需溶劑;

    • 超凈表面。

    UVO樣品托盤

    二、技術(shù)參數(shù)

    紫外燈類型

    低壓石英水銀蒸汽燈

    紫外線燈的主要波長

    185nm和254nm

    UV燈管尺寸

    100x100mm

    UV燈電源

    4000V,30mA

    UV燈壽命

    每天使用可用8-10年

    適用電壓

    230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)

    大運(yùn)行時(shí)間

    59分59秒

    安全特點(diǎn)

    安全聯(lián)鎖,高溫報(bào)警,高溫?cái)嚯姡?/span>

    托盤尺寸

    120x120mm

    大樣品尺寸

    100x100mm

    總尺寸

    長204mm、高227mm、寬300mm

    在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。


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